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1.工件在真空狀態下淬火，應使用真空淬火油，此油具有較低的飽和蒸氣壓。2.真空爐的保養應在真空或充純氮狀態下，避免平時不用時吸氣，吸潮。3.國內真空爐的壓升率應不大于1.33Pa/h，國外某些企業的標準為0.67Pa/h4.真空回火爐應該具有快冷裝置。冷卻水的壓力應該大于0.2Mpa，流量應可調。5.處理鈦合金時，不宜用氮氣作為冷卻氣體，因為鈦和氮在高溫下反應，形成金黃色的氮化鈦。6.冷卻氣體：鋼一般采用百分之99.995純度的氮氣，高溫合金采用百分之99.999的氮氣或氬氣...

不同氣氛對硅碳棒的影響隨著需控制爐內氣氛要求的增加，關于在不同氣氛中使用硅碳棒的注意事項也變得越來越重要。而且，在燒成中與處理物揮發出來的各種化學物質之間的反應也同樣需要注意。所以，針對特殊氣氛和腐蝕性物質，我公司開發了各種防止硅碳棒快速老化的涂層。選用適當的涂層可以延長硅碳棒的壽命。無論在哪種氣氛中都讓表面負荷盡量小。氣氛影響對策涂層水蒸氣和濕氣比在干燥大氣中的使用壽命縮短1/5新爐子試運行或者舊爐子長時間不工作再使用時，要先低溫充分干燥后再升溫。U涂層氫氣硅碳棒溫度上升到...

真空熱處理爐與可控氣氛爐的應用一、可控氣氛熱處理。1）、在少無氧化熱處理技術的發展趨勢中，*可控氣氛和真空熱處理的發展迅猛。在目前少品種、大批量生產中，尤其是碳素鋼和一般合金結構鋼件的光亮淬火、退火、滲碳淬火、碳氮共滲淬火、氣體氮碳共滲仍以應用可控氣氛為主要手段。所以可控氣氛熱處理仍是熱處理技術的主要組成部分。2）、制備氣氛的氣源。我國在掌握和推廣可控氣氛過程中，在解決氣氛問題上走過了漫長的道路。zui早的吸熱式氣氛發生爐主要用液化氣，即純度較高的丙烷或丁烷。近幾年已證實，我...

箱式爐的操作事項：（1）爐溫高于400℃時不允許大開爐門激烈冷卻。（2）zui高使用溫度不超過額定溫度。（3）裝爐量不可過大，引起溫度降低不應大于50℃。（4）裝爐時不要用力過猛，以免損壞爐底。

光亮熱處理就是把放置工件密閉容器中的氧燒掉形成穩定固態化合物，使金屬制品在無氧和低真空條件下加熱。具體的方祛是把金屬彈簧制品放在鐵制容器中，同時往容器中放入一小塊金屬納或鋰，然后蓋上蓋把縫焊死。將密封好的容器放在空氣爐中加熱。當容器被加熱到低溫，鈉或鋰燃燒和容器中的氧（占容器體積的21％）結合成穩定的固態化合物，反應如下：4Na+O2→2Na2O4Li+O2→2Li2O。進一步的加熱就在低于大氣壓的純氮中進行，加熱保持后在爐中或自爐中取出冷卻。即可使金屬達到光亮退火或正火的目...

一．選擇電熱元件的基本要點1．根據溫度：（加熱元件溫度=爐膛溫度+100--200度）一般爐溫小于1000度，選用NiCr,FeCrAl爐溫在1000—1200度之間，選用FeCrAl（Cr27Al7Mo2）爐溫大于1200度，選用純金屬或非金屬2．根據爐子結構特點3．根據熱處理工件情況4．輻射效率高5．來源方便二．選擇電熱元件應具有下列性能高電阻、截面積大、機械強度好、熱膨脹系數些化學性能穩定三．加熱元件表面負荷（W）選擇1．W越大，壽命越短2．爐內溫度高，有腐蝕性氣氛時...

常用壓力壓強單位換算表帕斯卡Pa（N/m2）千克力每平方厘米Kgf/cm2巴bar毫巴mbar標準大氣壓atm托torr英寸水柱inH2O毫米汞柱mmHg磅每平方英寸PSI（lb/in2）Pa11.02×10-51×10-50.019.87×10-67.5×10-34.01×10-37.5×10-31.45×10-4Kgf/cm29.8×10410.98980.670.967735.56393735.5614.2bar1×1051.02110000.987750.064017...

硅鉬棒使用注意事項硅鉬棒（二硅化鉬電熱組件）簡介概述二硅化鉬電熱組件是一種以硅化鉬為基礎的電阻發熱組件，其在氧化氣氛下加熱到高溫，表面生成一層致密的石英玻璃膜，保護其不再氧化。因此，其具有*的高溫抗氧化性，在氧化氣氛下，其zui高溫度可達1800℃，其適用溫度為500－1700℃，可以用作陶瓷、磁性材料、玻璃、冶金、耐火材料等工業高溫爐的加熱組件。我公司根據用戶需求可生產U型、W型、直棒型和直角型等各種型號。二硅化鉬電熱組件的機械性質和其它陶瓷制品一樣，在常溫下屬于脆性材料容...